Jump to content
Forum Kopalni Wiedzy

Search the Community

Showing results for tags 'ASML'.



More search options

  • Search By Tags

    Type tags separated by commas.
  • Search By Author

Content Type


Forums

  • Nasza społeczność
    • Sprawy administracyjne i inne
    • Luźne gatki
  • Komentarze do wiadomości
    • Medycyna
    • Technologia
    • Psychologia
    • Zdrowie i uroda
    • Bezpieczeństwo IT
    • Nauki przyrodnicze
    • Astronomia i fizyka
    • Humanistyka
    • Ciekawostki
  • Artykuły
    • Artykuły
  • Inne
    • Wywiady
    • Książki

Find results in...

Find results that contain...


Date Created

  • Start

    End


Last Updated

  • Start

    End


Filter by number of...

Joined

  • Start

    End


Group


Adres URL


Skype


ICQ


Jabber


MSN


AIM


Yahoo


Lokalizacja


Zainteresowania

Found 5 results

  1. Właśnie wyszło na jaw, że przed 4 laty chińscy pracownicy ukradli tajemnice firmowe holenderskiego producenta sprzętu do produkcji półprzewodników, ASML. O sprawie poinformował dziennik finansowy Financieele Dagblad. Straty sięgają setek milionów euro. Dziennikarze, powołując się na przeprowadzone przez siebie śledztwo, twierdzą, że kradzieży dokonali wysocy rangą chińscy pracownicy z wydziału badawczo-rozwojowego, którzy przekazali ukradzione dane chińskiemu rządowi. ASML nie posiada twardych dowodów na zaangażowanie w sprawę chińskiego rządu, oświadczyli przedstawiciele firmy. ASML przyznała wczoraj, że padła ofiarą szpiegostwa przemysłowego dokonanego przez pracowników z obcych krajów, w tym z Chin, ale twierdzi, że nie była celem konspiracji jakiegokolwiek kraju. Jak poinformowano, złodzieje wynieśli na klipsach USB „duże pliki”. Kradzieży dokonano w Dolinie Krzemowej, w jedej z firm należących do ASML i zajmujących się produkcją oprogramowania do optymalizacji działania maszyn. Firma z całą stanowczością zaprzecza wszelkim informacjom sugerującym związek rządu w Pekinie w tę sprawę. Tak się zdarzyło, że niektórzy z zamieszanych pracowników byli Chińczykami, stwierdził dyrektor firmy, Peter Wennink. ASLM to główny światowy dostawca sprzętu do produkcji półprzewodników. W 2018 roku ASML zanotowała w Chinach ponaddwukroty wzrost sprzedaży, do kwoty 1,8 miliarda euro. « powrót do artykułu
  2. Na urządzenia litograficzne kolejnej generacji będą mogły pozwolić sobie tylko nieliczne firmy. Sprawdzają się bowiem najbardziej pesymistyczne przewidywania dotyczące ich ceny. Dan Hutcheson, prezes firmy VLSI Research poinformował, że skanery litograficzne pracujące w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będą kosztowały.... 125 milionów dolarów za sztukę. Gdy w 2003 roku Intel przewidział, że tego typu urządzenia będą potrzebne i zaproponował ich budowę, przedstawiciele koncernu uważali, że skaneray EUV będą kosztowały około 20 milionów dolarów. Jednak Dan Hutcheson mówi, że nie powinniśmy się dziwić tak wysokiej cenie. Przypomina, że już wiele lat temu Risto Puhakka, który wówczas był prezesem VLSI Research przewidywał, dokonując porównania kosztu budowy skanera do piksela oferowanej przezeń rozdzielczości, że ceny mogą być aż tak wysokie. Wtedy wszyscy uważali, że to wielka przesada, a teraz zamawiają urządzenia w takiej cenie - mówi Hutcheson. Pomimo sporych opóźnień, spowodowanych ogromnymi kosztami i trudnościami technicznymi, litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie powoli zdobywa rynek. Firma ASML sprzedała dwa skanery w wersji alfa. Nabywcami byli IMEC i Sematech. Cena urządzenia to podobno 60 milionów USD. Ponadto ASML ma zamówienia na sześć, czyli wszystkie, skanerów produkcyjnych NXE:3100. Cena pojedynczego urządzenia sięga ponoć 90 milionów USD. Firma zebrała też 10 zamówień na NXE-3300, czyli skanery EUV nowej generacji. Zostaną one kupione przez Barclays Capital, Hynix, IMEC, Intela, Samsunga, Toshibę i TSMC.
  3. Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych. Problemy z EUV nie są dla nikogo tajemnicą. Jednak obecnie opóźnienie z wdrożeniem nowej technologii grozi komplikacjami na rynku półprzewodników. Intel miał nadzieję, że będzie w stanie wykorzystać EUV przy 22-nanometrowym procesie technologicznym, którego uruchomienie przewidziano na przyszły rok. Jednak, jak powiedział Yan Borodovsky, odpowiedzialny za zaawansowane technologie litograficzne w intelowskiej Technology and Manufacturing Group, EUV nie będzie gotowa na czas. Przynajmniej dla Intela pojawi się ona za późno. Dlatego też koncern, który obecnie używa wyłącznie urządzeń Nikona, ma zamiar przystosować je w tych procesach technologicznych, w których miał zamiar korzystać z EUV. Intel korzysta teraz ze 193-nanometrowych "suchych" skanerów Nikona do produkcji układów w technologii 45 nanometrów, a od niedawna korzysta z podobnych maszyn do litografii zanurzeniowej. Już w ubiegłym roku firma, obawiając się, że producenci sprzętu litograficznego nie będą w stanie dostarczyć jej na czas skanerów EUV, oznajmiła, że ma zamiar przystosować 193-nanometrowe skanery zanurzeniowe do produkcji 22-nanometrowych układów. Koncern nie wykluczył też, że rozważy przystosowanie takich maszyn do 15-nanometrowego procesu produkcyjnego, który chce wdrożyć w 2013 roku. Teraz firma mówi, że zastanawia się też nad produkowaniem w ten sposób również 11-nanometrowych układów. Przedstawiciele Intela mają jednak nadzieję, że do tego czasu pojawią się już odpowiednie urządzenia EUV lub do litografii bezmaskowej i 193-nanometrowe skanery będą stanowiły jedynie uzupełnienie nowej technologii. Na razie nie wiadomo, którą technologię wybierze Intel. Firma, by zdążyć z wdrożeniem w swoich liniach produkcyjnych skanerów EUV musi otrzymać je w 2011 lub 2012 roku. Urządzenia do litografii bezmaskowej muszą być dostępne najpóźniej w 2012 roku. Tymczasem na pojawienie się urządzeń EUV czeka coraz więcej firm. ASML Holding NV, producent urządzeń litograficznych, poinformował właśnie, że TSMC złożył zamówienie na EUV. To spora niespodzianka, bo dotychczas TSMC odrzucało możliwość korzystania z EUV. Firma nastawiała się na litografię bezmaskową. Współpracuje ona zresztą przy jej rozwoju z firmą Mapper Lithography BV. Na producentów urządzeń silny nacisk wywierają też inne firmy. Samsung oświadczył właśnie, że chce korzystać z technologii EUV, ale musi być ona gotowa do roku 2012. Wciąż jednak nie wiadomo, czy Nikon bądź ASML będą w stanie dostarczyć za dwa lata odpowiednie urządzenia. Na razie ASML oferuje swoim partnerom wersje "przedprodukcyjne". Producenci urządzeń do EUV wciąż zmagają się z poważnymi trudnościami. Kłopoty sprawiają zapewnienie im odpowiedniego zasilania, stworzenie fotorezystu oraz pozbawionych defektów masek. Sporym wyzwaniem będzie też cena. Już obecnie ASML sprzedaje "przedprodukcyjne" wersje urządzeń w cenie 90 milionów dolarów za sztukę.
  4. Już nie tylko dane z Intela mówią o wychodzeniu rynku IT z kryzysu. Optymistycznych informacji dostarcza też firma ASML, producent urządzeń do litografii. W trzecim kwartale bieżącego roku holenderskie przedsiębiorstwo sprzedało usługi i urządzenia o łącznej wartości 555 milionów euro. To ciągle mniej niż 696 milionów z trzeciego kwartału ubiegłego roku, ale znacznie więcej niż 277 milionów z drugiego kwartału 2009. ASML sprzedało 17 nowych systemów do litografii, a średnia cena każdego z nich wyniosła 23,4 miliona euro, oraz 7 używanych systemów. Wartość netto sprzedaży to 459 milionów. Ponadto sprzedano też usługi za 96 milionów euro. Wyniki te warto porównać z drugim kwartałem, gdy nabywców znalazły jedynie 4 nowe i 6 używanych systemów. Eric Meurice, prezes ASML, poinformował, że jego firma sprzedała też pierwszy system NXT:1950i, który pozwala na tworzenie układów w technologiach poniżej 30 nanometrów. Zysk netto wyniósł 20 milionów euro. Kwartał wcześniej przedsiebiorstwo zanotowało stratę netto w wysokości 104 milionów. Pomiędzy początkiem lipca a końcem września do ASML napłynęły też zamówienia na 27 nowych i 8 używanych systemów. Ich łączna wartość netto to 777 milionów euro. Zdaniem Meurice'a zwiększony popyt na urządzenia litograficzne to dowód na to, iż producenci układów scalonych znowu zaczynają inwestować w produkcję.
  5. Przemysłowi półprzewodnikowemu doszedł kolejny problem związany z koniecznością przełamywania kolejnych barier w miarę zmniejszania się poszczególnych elementów umieszczanych na krzemie. Tym razem nie chodzi o kłopoty związane z właściwościami materiałów czy odpowiednimi technikami produkcyjnymi. Z nieoficjalnych doniesień wynika, że Canon poinformował swoich partnerów, iż nie będzie więcej rozwijał nowoczesnych urządzeń litograficznych. Firma w 2007 roku zaprezentowała skaner to 193-nanometrowej litografii zanurzeniowej, jednak od tamtej pory udało się jej sprzedać tylko jedną tego typu maszynę. W związku z tym Canon ma zamiar skupić się na rozwoju maszyn do 248-nanometrowej litografii. Dla producentów układów scalonych może być to poważny problem. Wycofanie się Canona z rynku najbardziej zaawansowanych urządzeń może oznaczać, że już w niedalekiej przyszłości nowoczesne urządzenia do 193-nanometrowej litografii mogą zdrożeć nawet dwukrotnie i osiągnąć ceny rzędu 80-90 milionów dolarów za sztukę. Tyle będą musiały zapłacić firmy, które zechcą produkować kości w 22-nanometrowym procesie. Przejście na kolejny stopień zaawansowania technologicznego będzie zaś wymagało użycia narzędzi do pracy w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie. Ich cena przekroczy 100 milionów USD. Canon od dawna jest obecny na rynku narzędzi litograficznych. Firma produkowała nieco mniej zaawansowane urządzenia, ale były one tańsze, niż to, co proponowała konkurencja. Wiele przedsiębiorstw produkujących półprzewodniki mogło dzięki Canonowi negocjować lepsze ceny u rynkowych liderów - ASML i Nikona. Canonowi nie udało się jednak przebić na rynku najbardziej zaawansowanych urządzeń i postanowił z niego zrezygnować. To oznacza, że ASML i Nikon pozostaną jedynymi dostawcami tego typu sprzętu. Część analityków twierdzi jednak, że decyzja Canona nie ma wpływu na rosnące ceny urządzeń. Przypominają, że w połowie lat 80. ubiegłego wieku, gdy przekraczano granicę 1000 nanometrów, ceny urządzeń wahały się w granicach 1 miliona dolarów. Wówczas o rynek ten konkurowali ASET, ASML, Canon, GCA, Eaton, Nikon, Perkin-Elmer, SVG i Ultratech. Jednak od tamtej pory amerykańscy producenci przestali istnieć i pozostał tylko holenderski ASML i japońskie Canon oraz Nikon. W 2008 roku średnia cena systemu do litografii zanurzeniowej firmy ASML wynosiła 42 miliony dolarów. Teraz trzeba zapłacić 45 milionów. Wraz z każdym etapem zmniejszania się procesu produkcyjnego, cena urządzeń rośnie o 50-70 procent. To oznacza, że coraz mniej producentów układów scalonych może pozwolić sobie na zakup najnowocześniejszych narzędzi i produkcję najnowocześniejszych układów scalonych. Wiadomo, że na zakup skanerów po 80 milionów USD za sztukę stać tylko Intela, Samsunga, TSMC i Toshibę. Bez Canona nie ma co liczyć na to, że ceny będą rosły wolniej.
×
×
  • Create New...