EUV zadebiutuje w 2018 roku?

[KopalniaWiedzy.pl 318]

Wszystko wskazuje na to, że litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będzie gotowa na czas, by wykorzystać tę technologię do produkcji układów scalonych w procesie 7 nanometrów.

Obecnie źródła światła wykorzystywane w EUV nie są wystarczająco stabilne i nie mają odpowiedniej mocy, by mogły nadawać się do produkcji masowej. Prototypowe urządzenia zamontowane m.in. w fabrykach TSMC korzystają ze źródła o mocy 85 watów. Wkrótce zostaną one rozbudowane do 125 W. Producent urządzeń do litografii, ASML, zaprezentował ostatnio EUV o mocy 185 W i obiecuje, że do końca roku osiągnie moc 250 W.

Obecnie prototypowe maszyny działają przez 70% dnia roboczego i naświetlają 500-600 plastrów krzemowych. To olbrzymi postęp w porównaniu z ubiegłym rokiem, ale ich wydajność jest wciąż mniejsza niż urządzeń do litografii zanurzeniowej. Musimy zwiększyć ich wydajność jeszcze 2- lub 3-krotnie - mówi Frits van Hout z AMSL.

Producenci układów scalonych mają nadzieję, że będą mogli wykorzystać maszyny do EUV w 2018 roku. Pozwoli to na zmniejszenie kosztów produkcji drugiej generacji 7-nanometrowych układów. Dobra wiadomość jest taka, że obecnie wszystko wskazuje na to, iż nadzieje producentów się spełnią. Jednak należy przypomnieć, że EUV doświadczyło już wielu opóźnień.
Wdrożenie EUV będzie miało olbrzymie znaczenie. W litografii zanurzeniowej osiągnięcie odpowiedniej precyzji wymaga wielokrotnego przetwarzania tych samych plastrów. Dopiero wówczas można produkować odpowiedniej jakości układy w technologiach 16 nm i mniejszych. EUV znacznie uprości cały proces i przyczyni się do spadków kosztów.

« powrót do artykułu