Jump to content
Forum Kopalni Wiedzy
Sign in to follow this  
KopalniaWiedzy.pl

Współpraca przy nanostemplowaniu

Recommended Posts

Toshiba i SK Hynix podpisały umowę o współpracy przy rozwijaniu technik litografii wykorzystujących proces nanostemplowania (NIL – nano imprint lithography). Inżynierowie obu przedsiębiorstw będą wspólnie od kwietnia bieżącego roku pracowali w laboratoriach Toshiby w Yokohama Complex. Firmy chcą wdrożyć NIL w praktyce już w 2017 roku.

Toshiba już od jakiegoś czasu współpracuje nad NIL z firmami dostarczającymi odpowiedni sprzęt i materiały, opracowując metody integracji technologii NIL z obecnie wykorzystywanymi technologiami pracy z półprzewodnikami. Współpraca z SK Hynix ma na celu przełożenie dotychczasowych badań na zastosowania w produkcji oraz obniżenie kosztów ponoszonych przez Toshibę.

NIL to jedno z rozwiązań, które w przyszłości mogą zastąpić obecnie stosowaną fotolitografię. Fotolitografia korzysta z laserów i masek, dzięki którym na krzem nanosi się odpowiednie wzory będące podstawą do dalszej integracji podzespołów na układzie scalonym. NIL pozwala na bezpośrednie przenoszenie tych wzorów poprzez odbicie ich na podłożu. Jest to technologia bardziej precyzyjna, umożliwiająca większą miniaturyzację niż fotolitografia.

Toshiba rozwija jednocześnie technikę litografii EUV.


« powrót do artykułu

Share this post


Link to post
Share on other sites

Join the conversation

You can post now and register later. If you have an account, sign in now to post with your account.
Note: Your post will require moderator approval before it will be visible.

Guest
Reply to this topic...

×   Pasted as rich text.   Paste as plain text instead

  Only 75 emoji are allowed.

×   Your link has been automatically embedded.   Display as a link instead

×   Your previous content has been restored.   Clear editor

×   You cannot paste images directly. Upload or insert images from URL.

Sign in to follow this  

×
×
  • Create New...