Coraz więcej zamówień na EUV

[KopalniaWiedzy.pl 357]

ASML informuje o rosnącej liczbie zamówień na systemy do produkcji półprzewodników w technologii ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV). W ostatnim kwartale zamówiono 4 takie systemy, a ASML spodziewa się, że w przyszłym roku sprzeda ich 12. Wzrost zamówień daje nadzieję, że w 2020 roku skanery EUV będą gotowe do masowej produkcji. Prawdopodobnie zostaną wykorzystane do wytwarzania procesorów w technologii 5 nanometrów.

Holenderska firma zapowiada też, że jest gotowa do zwiększenia w 2018 roku produkcji systemów EUV do 24 rocznie. Obecnie jeden taki system kosztuje około 100 milionów dolarów, a producenci półprzewodników zainstalowali dotychczas osiem z nich.
Analityk Robert Maire z Semiconductor Advisors LLC przypomina, że ostatnio TSMC zapowiedziało wykorzystanie EUV do produkcji w technologii 5 nanometrów. Maire twierdzi, że co prawda większość producentów półprzewodników wykorzysta EUV właśnie do technologii 5 nanometrów, jednak wyjątek od reguły może stanowić Intel. Gigant opóźnił produkcję procesorów w technologii 10 nm, niewykluczone zatem, że wykorzysta EUV przy technologii 7 nm, którą będzie wdrażał w czasie, gdy TSMC rozpocznie produkcję 5-nanometrowych układów.

Obecnie najnowsze układy scalone produkuje się w technologii DUV (głęboki ultrafiolet). Za pomocą maszyn DUV można produkować układy w technologii 10 nanometrów i mniejsze, jednak wymagałoby to kilkukrotnego naświetlania masek, co jest trudne technicznie i bardzo kosztowne. Dzięki systemom EUV można będzie uniknąć takich działań i obniżyć koszty.
Na razie jednak systemy EUV nie są gotowe do masowej produkcji. Ich instalacja miałaby ekonomiczny sens, gdyby za ich pomocą można było produkować co najmniej 125 plastrów krzemowych na godzinę. Do tego jednak potrzebne jest źródło światła o mocy 250 watów. Wspomniane już zainstalowane systemy EUV korzystają ze źródła światła o mocy 125 watów i są w stanie przetwarzać 85 plastrów na godzinę. Ostatnio ASML zaprezentowała 210-watowe źródło światła. Firma pracuje też nad zwiększeniem efektywności swoich maszyn. Chce, by były one w stanie pracować przez 90% czasu. Dotychczas najlepsze z nich mogły pracować przez ponad 80% czasu w czasie czterotygodniowego okresu próbnego. Na tym właśnie polega różnica pomiędzy systemem znajdującym się w fazie badawczo-rozwojowej, a systemem gotowym do masowej produkcji - mówi Michael Lercel, dyrektor ds. marketingu w ASML.

Stworzenie systemu do produkcji masowej nie jest prostym zadaniem. Dość wspomnieć, że jego źródło światła musi całymi godzinami niezwykle precyzyjnie wystrzeliwać po 50 000 miniaturowych kropli stopionej cyny w ciągu sekundy. Najnowsze źródła światła są znacznie bardziej złożone od tych używanych w systemach poprzedniej generacji. Tamte są wielkości lodówki, nowe są większe.

« powrót do artykułu

[Stanley 15]

Biorąc pod uwagę że 14nm TSMC to realnie 19nm, a Samsunga 18-19nm natomiast Globala ok 20nm i dopiero 10nm zbliży się gęstoscia upakowania do Intel 14nm. EUV ma jeszcze ok 4 lat na rozwój.