Skocz do zawartości
Forum Kopalni Wiedzy
KopalniaWiedzy.pl

Nadchodzi epoka EUV

Rekomendowane odpowiedzi

ASML, największy na świecie producent urządzeń do wytwarzania układów scalonych, zapowiedział, że w 2016 roku rozpocznie sprzedaż maszyn do litografii w dalekim ultrafiolecie (EUV) gotowych do seryjnej produkcji układów scalonych.

Przemysł półprzewodnikowy od dawna czeka na tego typu urządzenia. Wdrażanie kolejnych, tworzonych w coraz mniejszej skali, podzespołów układów scalonych jest obecnie warunkiem dalszego postępu technicznego.

Litografia EUV jest kluczowym elementem pozwalającym na kontynuowanie tego procesu. ASML informuje, że TSMC – największy na świecie producent układów scalonych – zamówił dwa systemy NXE:3300B EUV. Mają być one dostarczone w 2015 roku. Ponadto dwa już używane systemy zostaną udoskonalone i rozbudowane do wersji NXE_3350B. TSMC chce pod koniec 2016 roku przynajmniej częściowo drożyć 10-nanometrowy proces produkcyjny.

Obecnie ASML próbuje zwiększyć moc źródła światłą w swoich urządzeniach EUV tak, by były one konkurencyjne wobec wykorzystywanych skanerów Deep UV (DUV). W tej chwili systemy NXE:3300B korzystają z 80-watowego źródła światła, co pozwala na przetwarzanie około 500 plastrów krzemowych na dobę. Holenderska firma chce w najbliższym czasie zwiększyć moc źródła światła do 125 watów, co pozwoli na produkcję 1000 plastrów dziennie. Natomiast w roku 2016 moc zostanie zwiększona do 250W, a system NXE:3300B będzie przetwarzał 1500 plastrów na dobę. To poziom, przy którym można mówić o masowej produkcji.

ASML twierdzi, że produkowane przez nią maszyny DUV będą nadal używane we wszystkich najnowocześniejszych procesach produkcyjnych. Firma ma też nadzieję, że do roku 2020 będzie sprzedawała 50-60 systemów EUV rocznie, co przyniesie jej wpływy w wysokości 12 miliardów dolarów.

Intel już wcześniej informował, że systemy EUV nie będą gotowe na czas, w związku z czym firma ma zamiar wdrożyć produkcję 10-nanometrowych układów scalonych bez tej technologii. Zapowiada nawet produkcję w technologii 7 nanometrów bez EUV. ASML ma zaś nadzieję, że około 2018 roku Intel wdrażając technologię 7 nanometrów będzie korzystał z jej rozwiązań.


« powrót do artykułu

Udostępnij tę odpowiedź


Odnośnik do odpowiedzi
Udostępnij na innych stronach

Tylko pewnie ceny .. będą odpowiednio wysokie.. bo zapotrzebowanie na procesory wcale nie maleje. 

Udostępnij tę odpowiedź


Odnośnik do odpowiedzi
Udostępnij na innych stronach

Jeśli chcesz dodać odpowiedź, zaloguj się lub zarejestruj nowe konto

Jedynie zarejestrowani użytkownicy mogą komentować zawartość tej strony.

Zarejestruj nowe konto

Załóż nowe konto. To bardzo proste!

Zarejestruj się

Zaloguj się

Posiadasz już konto? Zaloguj się poniżej.

Zaloguj się

  • Ostatnio przeglądający   0 użytkowników

    Brak zarejestrowanych użytkowników przeglądających tę stronę.

×
×
  • Dodaj nową pozycję...