-
Podobna zawartość
-
przez KopalniaWiedzy.pl
Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.
Problemy z EUV nie są dla nikogo tajemnicą. Jednak obecnie opóźnienie z wdrożeniem nowej technologii grozi komplikacjami na rynku półprzewodników. Intel miał nadzieję, że będzie w stanie wykorzystać EUV przy 22-nanometrowym procesie technologicznym, którego uruchomienie przewidziano na przyszły rok. Jednak, jak powiedział Yan Borodovsky, odpowiedzialny za zaawansowane technologie litograficzne w intelowskiej Technology and Manufacturing Group, EUV nie będzie gotowa na czas. Przynajmniej dla Intela pojawi się ona za późno.
Dlatego też koncern, który obecnie używa wyłącznie urządzeń Nikona, ma zamiar przystosować je w tych procesach technologicznych, w których miał zamiar korzystać z EUV. Intel korzysta teraz ze 193-nanometrowych "suchych" skanerów Nikona do produkcji układów w technologii 45 nanometrów, a od niedawna korzysta z podobnych maszyn do litografii zanurzeniowej. Już w ubiegłym roku firma, obawiając się, że producenci sprzętu litograficznego nie będą w stanie dostarczyć jej na czas skanerów EUV, oznajmiła, że ma zamiar przystosować 193-nanometrowe skanery zanurzeniowe do produkcji 22-nanometrowych układów. Koncern nie wykluczył też, że rozważy przystosowanie takich maszyn do 15-nanometrowego procesu produkcyjnego, który chce wdrożyć w 2013 roku. Teraz firma mówi, że zastanawia się też nad produkowaniem w ten sposób również 11-nanometrowych układów. Przedstawiciele Intela mają jednak nadzieję, że do tego czasu pojawią się już odpowiednie urządzenia EUV lub do litografii bezmaskowej i 193-nanometrowe skanery będą stanowiły jedynie uzupełnienie nowej technologii.
Na razie nie wiadomo, którą technologię wybierze Intel. Firma, by zdążyć z wdrożeniem w swoich liniach produkcyjnych skanerów EUV musi otrzymać je w 2011 lub 2012 roku. Urządzenia do litografii bezmaskowej muszą być dostępne najpóźniej w 2012 roku.
Tymczasem na pojawienie się urządzeń EUV czeka coraz więcej firm. ASML Holding NV, producent urządzeń litograficznych, poinformował właśnie, że TSMC złożył zamówienie na EUV. To spora niespodzianka, bo dotychczas TSMC odrzucało możliwość korzystania z EUV. Firma nastawiała się na litografię bezmaskową. Współpracuje ona zresztą przy jej rozwoju z firmą Mapper Lithography BV.
Na producentów urządzeń silny nacisk wywierają też inne firmy. Samsung oświadczył właśnie, że chce korzystać z technologii EUV, ale musi być ona gotowa do roku 2012. Wciąż jednak nie wiadomo, czy Nikon bądź ASML będą w stanie dostarczyć za dwa lata odpowiednie urządzenia. Na razie ASML oferuje swoim partnerom wersje "przedprodukcyjne". Producenci urządzeń do EUV wciąż zmagają się z poważnymi trudnościami. Kłopoty sprawiają zapewnienie im odpowiedniego zasilania, stworzenie fotorezystu oraz pozbawionych defektów masek.
Sporym wyzwaniem będzie też cena. Już obecnie ASML sprzedaje "przedprodukcyjne" wersje urządzeń w cenie 90 milionów dolarów za sztukę.
-
przez KopalniaWiedzy.pl
Przemysłowi półprzewodnikowemu doszedł kolejny problem związany z koniecznością przełamywania kolejnych barier w miarę zmniejszania się poszczególnych elementów umieszczanych na krzemie. Tym razem nie chodzi o kłopoty związane z właściwościami materiałów czy odpowiednimi technikami produkcyjnymi.
Z nieoficjalnych doniesień wynika, że Canon poinformował swoich partnerów, iż nie będzie więcej rozwijał nowoczesnych urządzeń litograficznych. Firma w 2007 roku zaprezentowała skaner to 193-nanometrowej litografii zanurzeniowej, jednak od tamtej pory udało się jej sprzedać tylko jedną tego typu maszynę. W związku z tym Canon ma zamiar skupić się na rozwoju maszyn do 248-nanometrowej litografii.
Dla producentów układów scalonych może być to poważny problem. Wycofanie się Canona z rynku najbardziej zaawansowanych urządzeń może oznaczać, że już w niedalekiej przyszłości nowoczesne urządzenia do 193-nanometrowej litografii mogą zdrożeć nawet dwukrotnie i osiągnąć ceny rzędu 80-90 milionów dolarów za sztukę. Tyle będą musiały zapłacić firmy, które zechcą produkować kości w 22-nanometrowym procesie. Przejście na kolejny stopień zaawansowania technologicznego będzie zaś wymagało użycia narzędzi do pracy w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie. Ich cena przekroczy 100 milionów USD.
Canon od dawna jest obecny na rynku narzędzi litograficznych. Firma produkowała nieco mniej zaawansowane urządzenia, ale były one tańsze, niż to, co proponowała konkurencja. Wiele przedsiębiorstw produkujących półprzewodniki mogło dzięki Canonowi negocjować lepsze ceny u rynkowych liderów - ASML i Nikona.
Canonowi nie udało się jednak przebić na rynku najbardziej zaawansowanych urządzeń i postanowił z niego zrezygnować. To oznacza, że ASML i Nikon pozostaną jedynymi dostawcami tego typu sprzętu.
Część analityków twierdzi jednak, że decyzja Canona nie ma wpływu na rosnące ceny urządzeń. Przypominają, że w połowie lat 80. ubiegłego wieku, gdy przekraczano granicę 1000 nanometrów, ceny urządzeń wahały się w granicach 1 miliona dolarów. Wówczas o rynek ten konkurowali ASET, ASML, Canon, GCA, Eaton, Nikon, Perkin-Elmer, SVG i Ultratech. Jednak od tamtej pory amerykańscy producenci przestali istnieć i pozostał tylko holenderski ASML i japońskie Canon oraz Nikon. W 2008 roku średnia cena systemu do litografii zanurzeniowej firmy ASML wynosiła 42 miliony dolarów. Teraz trzeba zapłacić 45 milionów. Wraz z każdym etapem zmniejszania się procesu produkcyjnego, cena urządzeń rośnie o 50-70 procent.
To oznacza, że coraz mniej producentów układów scalonych może pozwolić sobie na zakup najnowocześniejszych narzędzi i produkcję najnowocześniejszych układów scalonych. Wiadomo, że na zakup skanerów po 80 milionów USD za sztukę stać tylko Intela, Samsunga, TSMC i Toshibę. Bez Canona nie ma co liczyć na to, że ceny będą rosły wolniej.
-
przez KopalniaWiedzy.pl
W serwisie eBay sprzedawano już najbardziej niezwykłe rzeczy. Jednak pewna transakcja zainteresowała służby specjalne. Otóż na brytyjską aukcję trafił aparat należący do pracownika... brytyjskiego wywiadu.
Nikona sprzedano za 17 funtów, a jego nowy właściciel odkrył, że nie wykasowano z niego niezwykle interesujących informacji. Mógł więc zapoznać się z nazwiskami członków Al-Kaidy, zdjęciami ich odcisków palców, danymi dotyczącymi studiów, które ukończyli oraz obejrzeć fotografie wyrzutni rakiet.
Potwierdzamy, że przejęliśmy aparat po tym, jak kupiec poinformował nas o swoim odkryciu - powiedział przedstawiciel specjalnej jednostki policji z Hertfordshire. Przedstawiciele wywiadu prowadzą w tej sprawie śledztwo - dodał.
To jedna z wielu ostatnich wpadek osób odpowiedzialnych za bezpieczeństwo. Niedawno wysoki rangą urzędnik zostawił w pociągu ściśle tajne dokumenty dotyczące al-Kaidy i brytyjskich sił w Iraku, a w styczniu bieżącego roku brytyjskie Ministerstwo Obrony zgubiło laptopa z danymi 600 000 rekrutów. Z kolei w sierpniu jedna z firm prowadzących interesy z brytyjskim rządem zgubiła dane osobowe wszystkich więźniów w Walii i Anglii.
-
-
Ostatnio przeglądający 0 użytkowników
Brak zarejestrowanych użytkowników przeglądających tę stronę.