Znajdź zawartość

Niedawno informowaliśmy, że naukowcy z MIT przygotowali narzędzia (w tym tzw. nanolinijkę), dzięki którym możliwe będzie wykorzystanie technik litograficznych do produkcji układów scalonych w procesie 25 nanometrów. Mark Schattenburg, dyrektor Space Nanotechnology Laboratory w MIT, mówi: ... sądzimy, że używając obecnie dostępnej techniki jesteśmy w stanie zwiększyć rozdzielczość co najmniej dwukrotnie. Oznacza to, że technologie litograficzne znajdą zastosowanie także przy produkcji 12-nanometrowych kości. Uczeni z MIT-u chcą osiągnąć to za pomocą swojej nowej techniki, którą nazwali litografią interferencyjną wiązką skanującą (scanning-beam interference litography - SBIL). W tradycyjnej litografii laserowej plaster krzemowy jest nieruchomy. Nowa technologia zakłada, że będzie się on poruszał. Głównym problemem jest fakt, iż zmiana pozycji plastra względem laserów powoduje zmiany częstotliwości światła, a co za tym idzie nieregularności w liniach maski. Trudność tę przezwyciężono synchronizując lasery za pomocą 100-megahercowych fal dźwiękowych. Pierwsze procesory wykonane w technologii 25 nanometrów, mają trafić na rynek w latach 2013-2015. Miną kolejne lata, zanim producenci rozpoczną produkcję i sprzedaż układów korzystających z jeszcze mniejszych bramek. Osiągnięcia MIT-u oznaczają zatem, że współczesne techniki litograficzne, po udoskonaleniach, będą użyteczne jeszcze przez długie lata.