Skocz do zawartości
Forum Kopalni Wiedzy
KopalniaWiedzy.pl

Współpraca przy nanostemplowaniu

Rekomendowane odpowiedzi

Toshiba i SK Hynix podpisały umowę o współpracy przy rozwijaniu technik litografii wykorzystujących proces nanostemplowania (NIL – nano imprint lithography). Inżynierowie obu przedsiębiorstw będą wspólnie od kwietnia bieżącego roku pracowali w laboratoriach Toshiby w Yokohama Complex. Firmy chcą wdrożyć NIL w praktyce już w 2017 roku.

Toshiba już od jakiegoś czasu współpracuje nad NIL z firmami dostarczającymi odpowiedni sprzęt i materiały, opracowując metody integracji technologii NIL z obecnie wykorzystywanymi technologiami pracy z półprzewodnikami. Współpraca z SK Hynix ma na celu przełożenie dotychczasowych badań na zastosowania w produkcji oraz obniżenie kosztów ponoszonych przez Toshibę.

NIL to jedno z rozwiązań, które w przyszłości mogą zastąpić obecnie stosowaną fotolitografię. Fotolitografia korzysta z laserów i masek, dzięki którym na krzem nanosi się odpowiednie wzory będące podstawą do dalszej integracji podzespołów na układzie scalonym. NIL pozwala na bezpośrednie przenoszenie tych wzorów poprzez odbicie ich na podłożu. Jest to technologia bardziej precyzyjna, umożliwiająca większą miniaturyzację niż fotolitografia.

Toshiba rozwija jednocześnie technikę litografii EUV.


« powrót do artykułu

Udostępnij tę odpowiedź


Odnośnik do odpowiedzi
Udostępnij na innych stronach

Jeśli chcesz dodać odpowiedź, zaloguj się lub zarejestruj nowe konto

Jedynie zarejestrowani użytkownicy mogą komentować zawartość tej strony.

Zarejestruj nowe konto

Załóż nowe konto. To bardzo proste!

Zarejestruj się

Zaloguj się

Posiadasz już konto? Zaloguj się poniżej.

Zaloguj się

  • Ostatnio przeglądający   0 użytkowników

    Brak zarejestrowanych użytkowników przeglądających tę stronę.

×
×
  • Dodaj nową pozycję...